Benzeneacetonitrile, 2-methyl-α-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienylidene]- CAS 852246-55-0; ChemWhat Code: 1415150
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| Produktname | WI-PAG31704 |
| IUPAC-Name | [[3-[Cyano-(2-methylphenyl)methyliden]thiophen-2-yliden]amino]propan-1-sulfonat |
| Molekulare Struktur |  |
| CAS Registry Number | 852246-55-0 |
| Synonyme | 852246-55-0 Benzolacetonitril, 2-Methyl-α-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienyliden]- Benzolacetonitril,2-Methyl-alpha-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienyliden]- DTXSID60889217 [[3-[Cyano-(2-methylphenyl)methyliden]thiophen-2-yliden]amino]propan-1-sulfonat [(Z)-[(3Z)-3-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] propane-1-sulfonate |
| Summenformel | C16H16N2O3S2 |
| Molekulargewicht | 348.4 |
| InChI | InChI=1S/C16H16N2O3S2/c1-3-10-23(19,20)21-18-16-14(8-9-22-16)15(11-17)13-7-5-4-6-12(13)2/h4-9H,3,10H2,1-2H3 |
| InChI Schlüssel | PYKXYIPEUCVBIB-UHFFFAOYSA-N |
| Isomere SMILES | CCCS(=O)(=O)ON=C1C(=C(C#N)C2=CC=CC=C2C)C=CS1 |
Physische Daten
| Optik | Gelbes Pulver |
| Purity | 99.80% min |
| Wasser | ≤0.05% |
| Metallion (ppb) | AI: ≤100 CA: ≤200 CR: ≤200 CU: ≤100 FE: ≤200 K: ≤100 MG:≤100 MN: ≤ 100 NA: ≤200 |
Spectra
| Beschreibung (UV / VIS-Spektroskopie) | Lösungsmittel (UV / VIS-Spektroskopie) |
| Spektrum | Acetonitril |
Syntheseweg (ROS)
Keine Daten verfügbar
Sicherheit und Gefahren
Keine Daten verfügbar
Andere Daten
| Transportwesen | Lange Zeit bei Raumtemperatur lagern; versiegelt und vor Licht geschützt |
| Hs Code | |
| Lagerung | Lange Zeit bei Raumtemperatur lagern; versiegelt und vor Licht geschützt |
| Haltbarkeit | 1 Jahr |
| Drogenähnlichkeit | |
| Lipinski-Regelkomponente | |
| Molekulargewicht | 348.447 |
| logP | 3.36 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| Übereinstimmende Lipinski-Regeln | 4 |
| Veber Regelkomponente | |
| Polare Oberfläche (PSA) | 113.2 |
| Drehbare Bindung (RotB) | 5 |
| Übereinstimmende Veber-Regeln | 2 |
| Muster verwenden |
| Benzolacetonitril, 2-Methyl-α-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienyliden]- kann in OLED und anderen elektronischen Bereichen verwendet werden. Und es wird Fotolacken zugesetzt, um deren Empfindlichkeit gegenüber ultraviolettem (UV) Licht zu erhöhen. Wenn der Resist UV-Licht ausgesetzt wird, erzeugt PAG 103 Säure und löst chemische Reaktionen im Photoresist aus. Unter Einwirkung von UV-Licht produziert PAG 103 Säure. Diese Säure fungiert als Katalysator im Fotolack und fördert Reaktionen wie Vernetzung, Polymerisation oder Abbau. Unter Einwirkung von UV-Licht produziert PAG 103 Säure. Diese Säure fungiert als Katalysator im Fotolack und fördert Reaktionen wie Vernetzung, Polymerisation oder Abbau. |
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