Sulfonium, Triphenyl-, Salz mit 2,2,2-Trifluor-1-(sulfomethyl)ethyltricyclo[3.3.1.13,7]decan-1-carboxylat (1:1) CAS#: 1638216-03-1; ChemWhat Code: 1499492
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| Produktname | Sulfonium, Triphenyl-, Salz mit 2,2,2-Trifluor-1-(sulfomethyl)ethyltricyclo[3.3.1.13,7]decan-1-carboxylat (1:1) |
| IUPAC-Name | 2-(Adamantan-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluorpropan-1-sulfonat; Triphenylsulfanium |
| Molekulare Struktur | ![]() |
| CAS Registry Number | 1638216-03-1 |
| EINECS-Nummer | Keine Daten verfügbar |
| MDL-Nummer | Keine Daten verfügbar |
| Beilstein-Registrierungsnummer | Keine Daten verfügbar |
| Synonyme | 2-(Adamantan-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluorpropan-1-sulfonat; Triphenylsulfonium Triphenylsulfonium-2-((adamantan-1-carbonyl)oxy)-3,3,3-trifluorpropan-1-sulfonat |
| Summenformel | C32H33F3O5S2 |
| Molekulargewicht | 618.725 |
| InChI | InChI=1S/C18H15S.C14H19F3O5S/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;15-14(16,17)11(7-23(19,20)21)22-12(18)13-4-8-1-9(5-13)3-10(2-8)6-13/h1-15H;8-11H,1-7H2,(H,19,20,21)/q+1;/p-1 |
| InChI Schlüssel | LWCJGPXPEOMYDB-UHFFFAOYSA-M |
| Kanonisch SMILES | O=C(OC(CS(=O)(=O)[O-])C(F)(F)F)C12CC3CC(CC(C3)C1)C2.c1ccc(S+c2ccccc2)cc1 |
| Patentinformation | ||
| Patent ID | Titel | Veröffentlichungsdatum |
| EP2016 | NEUE BENZAMID-DERIVATE ALS PPAR-GAMMA-MODULATOREN | 2019 |
| WO2019 / 126730 | CHROMENOPYRIDIN-DERIVATE ALS PHOSPHATIDYLINOSITOL-PHOSPHAT-KINASE-INHIBITOREN | 2019 |
| US2018 / 230157 | PYRROLO [1,2-b] PYRIDAZIN-DERIVATE | 2018 |
| WO2018 / 169373 | PYRROLOTRIAZIN-DERIVATE ALS KINASE-INHIBITOR | 2018 |
| WO2018 / 203194 | DIAZABICYCLOOCTAN-DERIVATE MIT EINER QUATERNERAMMONIUMGRUPPE ZUR VERWENDUNG ALS ANTIBAKTERIEN | 2018 |
Physische Daten
| Aussehen | Weiß bis cremefarbenes Pulver |
| Löslichkeit | Keine Daten verfügbar |
| Flammpunkt | Keine Daten verfügbar |
| Brechungsindex | Keine Daten verfügbar |
| Sensitivität | Keine Daten verfügbar |
| Schmelzpunkt, °C | Lösungsmittel (Schmelzpunkt) |
| 64 | Hexan |
| 55 – 57 | Ethanol |
| 62 – 63 | aq. Ethanol |
| 63 – 64 | Benzol, Petrolether |
| Siedepunkt, ° C |
| 251 |
| 250 – 252 |
| Dichte, g · cm-3 | Referenztemperatur, ° C | Messtemperatur, ° C |
| 1.14 | 4 | 25 |
| 1.2 | 4 | -190 |
| 1.24 |
| Beschreibung (Association (MCS)) | Lösungsmittel (Vereinigung (MCS)) | Temperatur (Assoziation (MCS)), ° C | Partner (Vereinigung (MCS)) |
| Stabilitätskonstante des Komplexes mit… | CCl4 | 24.9 | 4-Fluorphenol |
| Stabilitätskonstante des Komplexes mit… | aq. HNO3 | 25 | AgNO3 |
| Assoziationsenthalpie | Acetonitril | 25 | Jod |
| NMR-Spektrum des Komplexes | CDCl3 | Cu (2,4-Dichlorbenzoat) 2 |
Spectra
| Beschreibung (NMR-Spektroskopie) | Kern (NMR-Spektroskopie) | Lösungsmittel (NMR-Spektroskopie) | Temperatur (NMR-Spektroskopie), ° C | Frequenz (NMR-Spektroskopie), MHz |
| Chemische Verschiebungen, Spektrum | 1H | Chloroform-d1 | 25 | 300 |
| Chemische Verschiebungen, Spektrum | 13C | Chloroform-d1 | 25 | 75 |
| Beschreibung (IR-Spektroskopie) | Lösungsmittel (IR-Spektroskopie) | Temperatur (IR-Spektroskopie), ° C |
| Bands | Kaliumbromid | 27 |
| Spektrum | CCl4 | 14.85 – 54.85 |
| Beschreibung (UV / VIS-Spektroskopie) | Lösungsmittel (UV / VIS-Spektroskopie) | Kommentar (UV / VIS-Spektroskopie) | Absorptionsmaxima (UV / VIS), nm | Ext./Abs. Koeffizient, l · mol-1cm-1 |
| Absorptionsmaxima | H2O, H2SO4 | Lösungsmittelverhältnis: 66percent | 258 | 5740 |
| Absorptionsmaxima | H2O, NaOH | Lösungsmittelverhältnis: 0.1N | 232, 290 | 8600, 3120 |
Syntheseweg (ROS)

| Erkrankungen | Ausbeute |
| Mit Wasserstoff In Ethylacetat bei 20 ℃; unter 7600.51 Torr; für 6h; Autoklav; | 99% |
| Mit 0.2C27H36N2 * Pt; Wasserstoff In Tetrahydrofuran bei 60 ℃; unter 3000.3 Torr; für 5h; chemoselektive Reaktion; | 99% |
| Mit Wasserstoff In Ethylacetat unter 760.051 Torr; für 2h; Heizung; Durchflussreaktor; Grüne Chemie; | 99% |
| Mit Wasserstoff; Triethylamin In Ethanol; Wasser bei 110 ℃; unter 30003 Torr; für 24h; Autoklav; | 98% |
| Mit Wasserstoff In 2-Methyltetrahydrofuran; Wasser bei 40 ℃; unter 15001.5 Torr; für 24h; chemoselektive Reaktion; | 98% |
| Mit Natriumtetrahydroborat In Wasser bei 20 ℃; für 1.5h; chemoselektive Reaktion; Versuchsdurchführung Allgemeines Verfahren: In einem typischen Experiment wurden 0.5mmol Nitroaren und 0.002g (2mol%) NiNPs / DNA zu 2mL Wasser gegeben und dann zum gründlichen Mischen für 2-3min gerührt. Anschließend wurde dem Reaktionsgemisch 1mmol NaBH4 unter magnetischem Rühren bei Raumtemperatur zugesetzt. Das Ausmaß der Reaktion wurde durch Dünnschichtchromatographie überwacht. Die Reproduzierbarkeit der Ergebnisse wurde durch mindestens dreimaliges Wiederholen überprüft und es wurde festgestellt, dass sie innerhalb akzeptabler Grenzen (± 3%) lagen. Nach Beendigung der Reaktion wurde das Reaktionsgemisch mit Ethylacetat verdünnt und der Katalysator durch Zentrifugation gewonnen. Die vereinigten organischen Fraktionen wurden über Na2SO4 getrocknet und unter vermindertem Druck eingedampft. Das Rohprodukt wurde durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit einem Gemisch aus Ethylacetat und n-Hexan als Elutionsmittel gereinigt, und das Verhältnis von Ethylacetat und n-Hexan war von der Struktur der Produkte abhängig. Die Struktur der isolierten Produkte wurde durch 1H verifiziert NMR. | 97% |
Sicherheit und Gefahren
| GHS-Gefahrenhinweise | Nicht klassifiziert |
Andere Daten
| Transport | NONH für alle Verkehrsträger |
| Bei Raumtemperatur und vor Licht geschützt | |
| Hs Code | |
| Lagerung | Bei Raumtemperatur und vor Licht geschützt |
| Haltbarkeit | 2 Jahre |
| Marktpreis | USD |
| Drogenähnlichkeit | |
| Lipinski-Regelkomponente | |
| Molekulargewicht | 94.116 |
| logP | -0.047 |
| HBA | 2 |
| HBD | 1 |
| Übereinstimmende Lipinski-Regeln | 4 |
| Veber Regelkomponente | |
| Polare Oberfläche (PSA) | 38.91 |
| Drehbare Bindung (RotB) | 0 |
| Übereinstimmende Veber-Regeln | 2 |
| Muster verwenden |
| wird als Photoinitiator (PAG) in chemisch verstärkten Photoresistsystemen für die fortgeschrittene Halbleiterlithographie eingesetzt. |
| Bei Einwirkung von UV- oder tiefem ultraviolettem Licht (DUV) entstehen starke Säuren, die katalytische Entschützungsreaktionen in Fotolackmaterialien auslösen und so eine hochauflösende Musterbildung ermöglichen. |
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Zugelassene Hersteller | |
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![Struktur Sulfonium, Triphenyl-, Salz mit 2,2,2-Trifluor-1-(sulfomethyl)ethyl-tricyclo[3.3.1.13,7]decan-1-carboxylat CAS 1638216-03-1](https://www.chemwhat.com/wp-content/uploads/2026/06/Structure-Sulfonium-triphenyl-salt-with-222-trifluoro-1-sulfomethylethyl-tricyclo3.3.1.137decane-1-carboxylate-CAS-1638216-03-1.jpg)

